新素材応用研究部門

スパッタリング装置

　近年のスパッタリング（薄膜作成）技術の進歩により、半導体、電子部品（光磁気デスク、薄膜ヘッド、液晶デバイス）のエレクトロニクス産業が発展しています。また、超伝導材料や新素材の開発背景にも、やはりスパッタリング技術があります。本技術は、今後においても多くの新材料、新デバイスの開発には不可欠なものであり、産業振興を支える重要な技術となっています。本装置は、合金、化合物、絶縁物、さらには高融点物質の成膜装置であり、新素材の開発を目指すものです。

※主な用途：酸化物超伝導、アモルファス太陽電池、ジョセフソン素子、ＩＣ配線光スイッチング、磁性材料などの作成